SPAD-1000 大型基板スパッタ蒸着装置

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SPAD-1000 大型基板スパッタ蒸着装置は大型基板やフレキシブルな基板材料にスパッタ蒸着法を用い、高速且つ安定に製膜できます。

特長

■高温ヒータ環境下においても独自の
　冷却方式により、安定した動作を保障

■DC、パルスDC、RF電源の自由な選択

■基板－スパッタ源間の距離を自由に
　変更可（オプション）

TMP排気系

2400L/s（メイン）もしくはクライオポンプ

基板温度（基板上）

850℃

到達真空度

5×10^-5pa　以下

スパッタ源

2inch径、3inch径、4inch径以上
また大口径矩形ターゲットに適応

先端的なレーザー・光学技術と真空技術を融合し、新薄膜生成システム、精密加工システムを仕様用途に応じてカスタマイズすることにより、世界に1台の製品をご提供いたします。

■ 17/02/06

【展示会出展のお知らせ】

2017/3/14（火）～17（金）までパシフィコ横浜で開催される『2017年第64回応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 15/03/05

【展示会出展のお知らせ】

2015/3/11（水）～14（土）まで東海大学湘南キャンパスで開催される『2015年第62回応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 14/06/09

【展示会出展のお知らせ】

2014/9/17（水）～20（土）まで北海道大学札幌キャンパスで開催される『2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 09/12/10

【NIMNOWの表紙に
　弊社装置が掲載】

独立行政法人物質・材料研究機構の広報誌、NIMSNOWの表紙にご掲載されました。