高温超伝導・強誘電体・半導体・FPD等様々な分野に薄膜作製技術は応用された自動成膜システム/PLD装置
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大面積PLDシステム
（パルスレーザパルス蒸着システム）
PLAD-4000（4inch径パルスレーザ蒸着）
PLAD-6000（6inch径パルスレーザ蒸着）
PLAD-8000（8inch径パルスレーザ蒸着）
をご用意しております。
高温超伝導・強誘電体・半導体・FPD等様々な分野に薄膜作製技術は応用されています。
PLD（Pulsed Laser Deposition)法はPVD（物理気相蒸着）法として他の手法では行えない材料、条件化で使用できる特長を持っています。
主な仕様
（仕様により、6x10-6 Paもしくはそれ以下）
基板回転：自動
4個もしくは6個、サイズφ1”より、最大φ8”まで
（φ1“ターゲットサイズでもφ8”基板成膜対応）
スウィングプログラムによる均一なターゲット表面を維持
【その他】
専用チャンバー導入窓、導入用ミラー
集光レンズ、プログラムレーザスキャン
バリアブルアッテネータ、赤色ガイド用LDレーザ
バリアブルスリット、プルームモニター
エキシマレーザガス供給設備、等々
オプション例
- ・ロードロックチャンバー
- ・反射高速電子線回折（RHEED）
- ・スパッタガン、E型電子銃、IBAD（イオンビームアシスト）との複合成膜対応
応用例
■ EHM-4000、6000、8000 高速基盤回転加熱システム最大基盤サイズ：φ4inch、6inch、8inch基盤対応
加熱方法 ：Sic基盤ヒータ［基盤ヒータ背面（上面）には水冷却］
基板回転 ：ステッピングモータ、もしくはスピードコントロール方式
基板温度 ：基板面上900度（100pa以上酸素雰囲気中可）
温調計 ：PID付R式用温調計、シース熱電対にてモニター
基板シャッター ：圧空シャッターにて開閉
レーザスキャン、基板回転、ターゲット公転にレーザ発振
制御が行え、多層膜の製膜、基板面上での製膜の厚み
の制御が行えます。
【主な制御】
［基板回転加熱機構］
・基板回転：角度・速度設定、角度回転条件設定
［ターゲット回転駆動機構］
・ターゲット 切換、ターゲット自転 ON・OFF
ターゲット遥動操作、ターゲット遥動プログラム
［レーザ発振、レーザスキャン］
・レーザスキャンとターゲット照射位置が連動
・TTL5Vにて1パルスレーザ発振
（シングルショット～300Hz）
［その他、拡張性］
・パターンプレート、自動アッテネータ等と連動可
エキシマレーザ
レーザ出力、生産性によりご選択いただけます。
① COMPex Proシリーズ：7W～30W、20Hz～50Hz
② LPX Proシリーズ：～90W、～200Hz
③ LSXシリーズ 産業用エキシマレーザ：200W～540W 300Hz～600Hz
カタログダウンロード
■ 大面積PLDシステム （ファイル：PDF、2.26MB）
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【展示会出展のお知らせ】
2017/3/14（火）～17（金）までパシフィコ横浜で開催される『2017年 第64回 応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。
【展示会出展のお知らせ】
2015/3/11（水）～14（土）まで東海大学湘南キャンパスで開催される『2015年 第62回 応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。
【展示会出展のお知らせ】
2014/9/17（水）～20（土）まで北海道大学札幌キャンパスで開催される『2014年 第75回 応用物理学会秋季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。
【NIMNOWの表紙に
弊社装置が掲載】
独立行政法人 物質・材料研究機構の広報誌、NIMSNOWの表紙にご掲載されました。
