PLAD-250R PLDシステム

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PLAD-250R PLDシステムはエキシマレーザとの制御により自動成膜（レーザショット数、ターゲット切替等々）を簡易に行えます。

独自のSiC式回転基板加熱により、基板面上で800度以上の加熱が行えます。

ターゲットは1 inch径を6個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。

TMP排気系

200L/s（メイン）

基板サイズ

最大2inch （50.8mm）径

基板温度（基板上）

850℃

到達真空度

5×10^-5pa　以下

ロードロックチャンバー

なし

ターゲット

1inch径×6個　もしくは　2inch×4個

導入光学系

エキシマレーザ用ステアリングミラー、集光レンズ
安全光学カバー

先端的なレーザー・光学技術と真空技術を融合し、新薄膜生成システム、精密加工システムを仕様用途に応じてカスタマイズすることにより、世界に1台の製品をご提供いたします。

■ 17/02/06

【展示会出展のお知らせ】

2017/3/14（火）～17（金）までパシフィコ横浜で開催される『2017年第64回応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 15/03/05

【展示会出展のお知らせ】

2015/3/11（水）～14（土）まで東海大学湘南キャンパスで開催される『2015年第62回応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 14/06/09

【展示会出展のお知らせ】

2014/9/17（水）～20（土）まで北海道大学札幌キャンパスで開催される『2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 09/12/10

【NIMNOWの表紙に
　弊社装置が掲載】

独立行政法人物質・材料研究機構の広報誌、NIMSNOWの表紙にご掲載されました。