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真空装置

EBAD-Series EB蒸着装置

EBAD-Series EB蒸着装置

試作・実験用薄膜作成E型電子銃装置(PLDとの複合成膜も可)です。

金属.絶縁物.各種誘電体蒸着に対応可能な電子銃を搭載しております。

φ30〜40mmハースを均等にビーム照射可能です。

基板径1インチ〜4インチワーク標準、大型6インチ、8インチに対応しております。



EBAD-Series EB蒸着装置
SideEntry式4ポケットEB


EBAD-Series EB蒸着装置
排気・圧力制御 操作画面例


主な仕様
真空性能
2E-5Pa以下
主ポンプ
TMP 800L/S (水クライオ追加 オプション)
蒸着材料
金属、絶縁物、各種誘電体材料
ハース形状
φ30mm〜40mm (仕様により変更可)
成膜エリア
70mm×200mm(T/S距離、条件に依存)
基板対応サイズ
φ1“〜φ4”標準、大型φ6”,φ8”に対応
投入電力
3KW〜6KW
電源
−6KV〜ー10KV(Arc抑制機能付き)
簡易EBガンシステム構成例

簡易EB癌システム構成例

EBガン仕様
蒸着材料
金属、絶縁物、各種誘電体材料
ハース形状
φ30mm〜40mm(材料、仕様により変更可)
最大4点ハース
単一多量材料用のアニュラーハースも対応可
成膜エリア
70mmx200mm(T/S距離、条件に依存)
ビーム走査範囲
〜φ30mm (材料に依存)
ビーム発生源形状
3KW:W100×D240×H130
6KW:W160×D250×H175
最大投入電力
3KW〜6KW
印加電圧
−6KV〜ー10KV

オプション例
  • ・マルチハース
  • ・各種ハースライナー
  • ・水晶式膜厚モニター
  • ・RHEED
  • ・ロードロックチャンバーなど


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先端的なレーザー・光学技術と真空技術を融合し、新薄膜生成システム、精密加工システムを仕様用途に応じてカスタマイズすることにより、世界に1台の製品をご提供いたします。

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【展示会出展のお知らせ】

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【NIMNOWの表紙に
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独立行政法人 物質・材料研究機構の広報誌、NIMSNOWの表紙にご掲載されました。 NIMSNOW2009年11月号