EBAD-1000 大型基板電子ビーム（EB）蒸着装置

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EBAD-1000 大型基板電子ビーム（EB）蒸着装置は大型基板やフレキシブルな基板材料に電子ビーム（EB）蒸着法を用い、高速且つ安定に製膜できます。

特長

■6KW E型電子銃4連式
　（オプションにて自動切換え可）

■270度偏向電子銃、5kW電源採用で、
　長時間運転可能

■4連式多連ハースとリング型アニュラー
　ハースとの交換が容易で、多量の試料
　充填可能

■マルチ水晶式膜厚制御器搭載
　（最大12点の切り替え）可能。

■基板－蒸着源の距離の変更（オプション）
　をしても、ハース連続回転（速度制御）が
　行えます。
　最適条件だしと、5KWでの長時間連続製膜
　が可能。

TMP排気系

2400L/s（メイン）もしくはクライオポンプ

基板温度（基板上）

850℃

到達真空度

5×10^-5pa　以下

先端的なレーザー・光学技術と真空技術を融合し、新薄膜生成システム、精密加工システムを仕様用途に応じてカスタマイズすることにより、世界に1台の製品をご提供いたします。

■ 17/02/06

【展示会出展のお知らせ】

2017/3/14（火）～17（金）までパシフィコ横浜で開催される『2017年第64回応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 15/03/05

【展示会出展のお知らせ】

2015/3/11（水）～14（土）まで東海大学湘南キャンパスで開催される『2015年第62回応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 14/06/09

【展示会出展のお知らせ】

2014/9/17（水）～20（土）まで北海道大学札幌キャンパスで開催される『2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 09/12/10

【NIMNOWの表紙に
　弊社装置が掲載】

独立行政法人物質・材料研究機構の広報誌、NIMSNOWの表紙にご掲載されました。