PLAD-371PEB PLD/EB複合システムはエキシマレーザとの制御により自動成膜(レーザショット数、レーザスキャニング、ターゲット切替等々)を簡易に行えます。
ターゲットは20mm径を4個有し、自転およびプログラム式公転により、ターゲット上の照射が均一になる様に補正されます。
独自の回転式SiC基板加熱により、大型基板面上で850度以上の加熱が行えます。
更にUHV対応E型電子銃を備え、異なった手法が同一の成膜チャンバー内で使用できます。
先端的なレーザー・光学技術と真空技術を融合し、新薄膜生成システム、精密加工システムを仕様用途に応じてカスタマイズすることにより、世界に1台の製品をご提供いたします。
【展示会出展のお知らせ】
2017/3/14(火)〜17(金)までパシフィコ横浜で開催される『2017年 第64回 応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。
【展示会出展のお知らせ】
2015/3/11(水)〜14(土)まで東海大学湘南キャンパスで開催される『2015年 第62回 応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。
【展示会出展のお知らせ】
2014/9/17(水)〜20(土)まで北海道大学札幌キャンパスで開催される『2014年 第75回 応用物理学会秋季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。
【NIMNOWの表紙に
弊社装置が掲載】
独立行政法人 物質・材料研究機構の広報誌、NIMSNOWの表紙にご掲載されました。