AOVでは、多種多様なお客様のご要望にお応えするために、カスタマイズされた様々な真空製膜装置を取り扱いしております。AOVの取り扱う真空装置は物理気相蒸着(PVD)法と化学気相蒸着(CVD)法に大きく分かれています。
PVD法による装置は、
に区分され、CVD法による装置と共に各種お取り扱いしております。
高い雰囲気中ガス(酸素、窒素、アルゴン等)下における高温基板加熱技術、高温下における安定した駆動制御機構に特徴があり、ご好評を頂いております。
真空チャンバー中に置かれた対象材料にパルスレーザを照射することにより、化学反応を伴う爆発的な気化によって対向する基板上に薄膜として蓄積する成膜方法を利用したシステム
高いエネルギーの原子/分子がターゲットにぶつかるとスパッタされ、スパッタされた対向に基板を位置し、薄膜生成されることにより蓄積させる装置
真空下で電子ビームを試料に照射し、加熱することにより蒸発させ、基板上に堆積させる装置
先端的なレーザー・光学技術と真空技術を融合し、新薄膜生成システム、精密加工システムを仕様用途に応じてカスタマイズすることにより、世界に1台の製品をご提供いたします。
【展示会出展のお知らせ】
2017/3/14(火)〜17(金)までパシフィコ横浜で開催される『2017年 第64回 応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。
【展示会出展のお知らせ】
2015/3/11(水)〜14(土)まで東海大学湘南キャンパスで開催される『2015年 第62回 応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。
【展示会出展のお知らせ】
2014/9/17(水)〜20(土)まで北海道大学札幌キャンパスで開催される『2014年 第75回 応用物理学会秋季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。
【NIMNOWの表紙に
弊社装置が掲載】
独立行政法人 物質・材料研究機構の広報誌、NIMSNOWの表紙にご掲載されました。