簡易型エキシマレーザー加工機　LP-ES1

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簡易型エキシマレーザー加工機　LP-ES1 はKrFエキシマレーザを装備し、様々な材料に応じて微細な加工が行えます。

エキシマレーザー加工システム　正面図

搭載レーザ

エキシマレーザー

波長

248nm、308nm、193nm

繰り返し周波数

用途、レーザ選択によります。

出力

レーザ機種によります。

光学系

用途により、以下から選択
　・バリアブルアッテネータ
　・集光光学系
　・マスクイメージング光学系
　・簡易式ホモジナイザー光学系
　・フライアイ式ホモジナイザー光学系

ワークステージ

X300nm×Y300nm（ストローク・精度選択可）
Z軸、θ軸（オプション可）

ワーク観察

CCDカメラ（オフセット位置）
CCDカメラ（同軸位置）

先端的なレーザー・光学技術と真空技術を融合し、新薄膜生成システム、精密加工システムを仕様用途に応じてカスタマイズすることにより、世界に1台の製品をご提供いたします。

■ 17/02/06

【展示会出展のお知らせ】

2017/3/14（火）～17（金）までパシフィコ横浜で開催される『2017年第64回応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 15/03/05

【展示会出展のお知らせ】

2015/3/11（水）～14（土）まで東海大学湘南キャンパスで開催される『2015年第62回応用物理学会春季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 14/06/09

【展示会出展のお知らせ】

2014/9/17（水）～20（土）まで北海道大学札幌キャンパスで開催される『2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会』の併設展示ブースに出展いたします。

■ 09/12/10

【NIMNOWの表紙に
　弊社装置が掲載】

独立行政法人物質・材料研究機構の広報誌、NIMSNOWの表紙にご掲載されました。